杭州电子科技大学研磨抛光机2022年6月政府采购意向
| 所在地区： | 浙江-杭州- | 发布日期： | 2022年6月23日 |
招标采购正文
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将 杭州电子科技大学研磨抛光机2022年6月采购意向公开如下：
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额（元） | 预计采购时间（填写到月） | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|
| １ | 研磨抛光机 | "采购标的名称：研磨抛光机 规格型号：GNAD610 数量：1 主要应用场景：用于集成电路制造过程中实现晶圆表面平坦化关键工艺，为满足集成工艺对晶圆表面纳米级平台化要求，通过表面化学作用和机械研磨技术结合，实现晶圆表面多种材料的微米/纳米级精度去除。 主要性能指标：磨抛盘转速：0-120rpm；晶圆背压力范围：0-3.5KG；控制系统包括：触摸屏控制，置于设备上方，防腐蚀液溅射。样品磨抛方式：真空吸附磨抛的样品，利用真空夹具，磨抛盘的相对运动，在不同腐蚀性磨抛介质的作用下，将磨抛样品去除到指定的厚度并实现光滑的表面粗糙度，进而达到高度平坦化的效果；磨抛液承载装置：料桶匀速转动，且转速可控，防止磨料剧团；要求载片尺寸（6寸）。 紧缺情况：使用研磨抛光机使得化学机械研磨表面精度较高，损伤低，完整性好，不容易出现表面/亚表面损伤研磨一致性好，表面平整度高，研磨效率高，可以在保证材料去除效率的同时，获得较完美的表面，得到的平整度比单纯使用化学研磨或机械研磨要高出1-2个数量级，并且可以实现纳米级到原子级的表面粗糙度。实验室开展相关科研工作，缺少一台研磨抛光机。 质量、服务、安全、时限等要求：货物应为甲方所指定品牌型号的原厂商生产的、完整的、全新的、未使用过的成套成品货物； 售后服务承诺：货物质保期为12个月，自货物经甲方签署验收合格报告之日起算。乙方应保证货物在质保期内完全符合本协议规定的质量、规格并保持完好的性能。 货期：最晚不迟于收到信用证后90个自然日。" | 760000 | 2022年07月 |
杭州电子科技大学
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