一、项目信息

采购人：复旦大学义乌研究院

项目名称：复旦大学义乌研究院新材料新器件新装备高精尖缺制造中心紫外光刻系统采购

拟采购的货物或服务的说明： 标项名称：紫外光刻系统 数量：1 预算金额（元）：1973000.00（不含进口关税及增值税） 单位：套 备注：

拟采购的货物或服务的预算总金额（元）：1973000.00（不含进口关税及增值税）

1、光刻工艺是半导体器件加工工艺中的最为重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。光刻工艺之所以至关重要，是因为各种微纳结构的图形形状都是由这道工艺来决定的，这道工艺的能力，决定了整个工艺的水平，而其任何问题，都会影响整个工艺流程的结果。

2、目前市场上的光刻机厂家主要有荷兰ASML，日本尼康，德国SUSS等。其中荷兰ASML和日本尼康主要生产工业级光刻机，适用于产业界大规模批量生产。德国SUSS主要生产实验室用科研级光刻机设备，体积较小，维护方便，精度高。其中SUSS MA/BA6Gen4 紫外光刻设备是在微电子科研领域使用的接近接触式光刻机的最高水平。SUSSMA/BA6Gen4光刻机采用了全新的LED曝光光源技术，用长寿命、高稳定性的LED 灯组替代了业界使用多年的高压汞灯技术。SUSS 采用专利的“消衍射”光学系统，曝光光束呈一特定夹角投射到掩膜

版上，能够有效消除紫外光在投射到亚微米线条时的次级衍射峰，这一功能是SUSS独有的。

3、无论在i线还是光谱紫外光，SUSSMA/BA6的光强都是其他厂商的两倍以上。其中i线最高光强输出高达 45mw/cm2，光谱紫外光更可以达到120mw/cm2以上。对于光刻特别是厚胶工艺而言，更高的光强意味着更短的曝光时间和更好的光刻胶形貌。这样的工艺能力也是SUSS独有的。也就是说，对于一些厚胶工艺，只有SUSS 的光刻机可以达到一定的工艺结果。

4、光强均匀性意味着在整个晶圆上的各个位置是否可以得到相同的曝光效果，SUSS特有的微透镜阵列系统使得其均匀性优于+/-2.5%。而其他厂商能够承诺的光强均匀性都只有+/-5%。并且设备有非常长时间的光强稳定性，意味着设备使用稳定可靠。经过调研，SUSS的光刻机的光强输出只和光源的正常衰减有关系，非常稳定可靠。这样的光强均匀性指标也是SUSS独有的技术优势，而这个优势对于工艺结果至关重要。

5、复旦大学义乌研究院是浙江省新型研发机构。市面上光刻机设备，只有德国SUSS的产品面向实验室开发，并且具有特殊的高精度曝光专利技术，能够满足义乌研究院的研究需求。因此建议进行单一来源采购。

二、拟定供应商信息

名称：苏美达国际技术贸易有限公司

地址：南京市长江路198号SUMEC大厦9楼

三、公示期限

2022年3月2日至2022年3月8日

四、其他补充事宜

1.本项目公告期限为5个工作日，供应商对该项目拟采用单一来源采购方式及其理由和相关需求有异议的，可以在公示期限内（截止时间为本公示发布之日后的第6个工作日），以书面形式向采购人提出异议。 2./

五、联系方式

1.采购人信息

名 称：复旦大学义乌研究院

联 系 人：周工

联系电话：0579-85507181