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微纳测试加工(XF-WSBX-2100539)延期公告

所在地区: 浙江-- 发布日期: 2021年10月19日
招标采购正文
打印公告
微纳测试加工(XF-WSBX-2100539)延期公告
发布时间:2021-10-19 14:11:31阅读量:8次
延期信息
延期理由: 由于该项目报价情况不满足要求,本项目延期至2021-10-22 16:00 因报价情况不满足要求,采购方决定延期
项目名称 微纳测试加工 项目编号 XF-WSBX-2100539
公告开始日期 2021-10-19 14:11:31 公告截止日期 2021-10-22 16:00:00
采购单位 浙江大学 付款方式 货到付款(人民币报价的,甲方在完成验收并获取乙方支付凭证后30日内向乙方一次性支付本项目的总款项。 需由甲方办理进口减免税业务的,只接受外币报价,汇率风险如无约定由甲方承担,境内产生的其他所有费用由乙方承担(包括可能加增的关税)。在甲方完成到货验收后30日内由甲方指定的外贸代理公司向乙方指定的外方公司一次性支付外币报价的全部款项。也可采用乙方交5%履约保证金后外贸公司见发货单支付外方公司100%款项)。
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系电话 中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求 成交后7天 到货时间要求
预算总价 ¥ 300000.00 + NaN + NaN
发票要求 增值税普通发票 增值税专用发票
含税要求
送货要求
安装要求
收货地址
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

公告说明 由于该项目报价情况不满足要求,本项目延期至2021-10-22 16:00
采购清单1
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
微纳测试加工 1 项 其他服务行业 无 无
品牌 品牌1
型号
品牌2
型号
品牌3
型号
预算单价 ¥300000.00
技术参数及配置要求 1、MA6 制作光刻胶掩膜 30小时2、NIKON-I12步进光刻机 制作高精度光刻胶掩膜 30小时3、电子束光刻机 高精度精细结构制作 40小时4、冷场发射扫描电镜 观察器件精细形貌 30小时5、等离子去胶机 芯片表面清洁 28小时6、PECVD 薄膜生长 20小时7、NLD 570 刻蚀特定材料 20小时8、金属干法 金属刻蚀 20小时9、磁控溅射 金属薄膜生长 20小时10、电子束蒸发(Cr、Al、Ni等) 生长部分金属 20小时11、电子束蒸发(Au及合金) 生长金及其合金 10小时12、划片机 得到特定尺寸芯片 10小时13、超净间使用费 小设备、超净间使用费 220小时
参考链接
售后服务 无;

浙江大学

2021-10-19 14:11:31

竞价招标详情请到:https://www.yuncaitong.cn/publish/2021/10/19/20KUXOV143APL48J.shtml

按照客观、公正、公开的原则,本条信息受业主方委托独家指定在中国建设招标网 www.jszhaobiao.com 发布

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